로이터(Reuters)의 2025년 12월 17일 자 단독 보도 **"중국이 서방의 AI 칩에 맞서기 위해 어떻게 '맨해튼 프로젝트'를 구축했는가"**에 대한 주요 내용을 번역 및 요약해 드립니다. 📑 주요 내용 요약 중국은 미국의 강력한 수출 규제를 뚫고 최첨단 반도체 제조의 핵심 장비인 EUV(극자외선) 노광장비 독자 개발을 위해 국가적 역량을 총동원한 '맨해튼 프로젝트'급 비밀 작전을 수행해 왔습니다. 1. 선전(Shenzhen)의 비밀 실험실 * 프로토타입 완성: 중국 과학자들은 선전의 고보안 실험실에서 AI 칩, 스마트폰, 군사 장비의 핵심인 첨단 반도체를 생산할 수 있는 EUV 노광장비 프로토타입을 구축했습니다. * 규모: 이 장비는 공장 한 층을 거의 다 채울 정도의 거대한 규모이며, 2025년 초에 완성되어 현재 테스트 단계에 있습니다. 2. 기술 확보의 비결: '리버스 엔지니어링'과 인력 영입 * ASML 출신 인력: 네덜란드의 반도체 장비 거인 ASML에서 근무했던 전직 엔지니어들이 이 프로젝트에 참여했습니다. * 리버스 엔지니어링: 이들은 ASML의 기술을 역설계(Reverse-engineering)하여 서방이 독점하고 있던 EUV 광원 발생 및 광학 시스템 기술을 재현해냈습니다. * 핵심 인물: ASML의 광원 기술 책임자였던 '린 난(Lin Nan)'과 같은 전문가들이 중국의 기술 격차를 줄이는 데 결정적인 역할을 한 것으로 보입니다. 3. 향후 전망 및 목표 * 로드맵: 중국 정부는 2028년까지 실제 작동하는 칩 생산을 목표로 하고 있으나, 전문가들은 2030년 정도를 더 현실적인 목표로 보고 있습니다. * 자립 선언: 시진핑 주석은 반도체 공급망 전체에서 미국 및 서방의 영향력을 제거하라는 지침을 내렸으며, 국가적 보조금을 무제한 투입하고 있습니다. 4. 남은 과제 * 장비가 작동하여 '빛'을 내는 데는 성공했으나, 아직 상용 수준의 완벽한 칩을 대량 생산하는 단계에는 이르지 못했습니다. * 서방 공급업체들이 독점하고 있는 초정밀 광학 렌즈 및 거울 시스템을 완벽하게 복제하는 것이 여전한 기술적 난관으로 남아 있습니다. 💡 시사점 이 보도는 미국의 반도체 수출 규제가 오히려 중국의 기술 자립 속도를 가속화했음을 보여줍니다. 서방 전문가들은 중국이 EUV 기술을 확보하는 데 10년 이상 걸릴 것으로 예상했으나, 이번 프로토타입의 등장은 그 간격이 예상보다 훨씬 빠르게 좁혀지고 있음을 시사합니다. 이 기사의 특정 부분(예: 기술적 디테일이나 정치적 배경 등)에 대해 더 자세한 번역이나 설명이 필요하신가요? https://www.reuters.com/world/china/how-china-built-its-manhattan-project-rival-west-ai-chips-2025-12-17/